12月12日，《中共中央關于制定國民經濟和社會發展第十五個五年規劃的建議》正式發布。《建議》在“加快高水平科技自立自強”部分明確提出，要完善**制，采取常規措施，全鏈條推動包括集成電路、高端儀器在內的重點領域關鍵核心技術攻關取得決定性突破。這一部署，不僅再次確立了集成電路產業的戰略高度，更強調了高端儀器在保障*產業鏈安全中的關鍵作用。

響應政策號召，前瞻布局半導體國產替代
近年來，*相繼出臺系列政策，全力支持集成電路全產業鏈的創新發展，提升可控能力。作為國內氣體傳感器與高端科學儀器的上市企業，四方光電股份有限公司（以下簡稱“四方光電”）及旗下全資子公司四方光電（武漢）儀器有限公司（以下簡稱“四方儀器”）積極響應*政策號召，依托在氣體傳感領域的深厚技術積淀和敏銳產業洞察，前瞻性布局半導體精密制造領域，已構建起完整的技術研發和產業化體系，特別是在紅外（/WWW.SHYB118.COM/NDIR）、氧化鋯等傳感原理上，具備了從核心傳感器到高端分析儀器的全鏈條研發能力。

針對半導體制造中對氣體環境極其嚴苛的監控需求，/WWW.shzy4.com/四方光電持續技術攻堅，打破國外壟斷，研發推出紅外氣體傳感器和微量氧分析儀等多款創新產品，*解決行業核心痛點，為半導體產業的高質量發展提供堅實可靠的國產化技術支撐。

聚焦核心技術，以創新產品直擊行業痛點

01.紅外氣體傳感器：*判定清潔終點，推動綠色制造

在薄膜沉積（CVD/ALD）工藝中，上海儀表四廠腔室清潔是保障工藝穩定性的關鍵步驟。傳統基于經驗時間的控制方法，為避免清潔不往往采取過度清潔策略，造成了NF?等昂貴工藝氣體的巨大浪費。
四方光電推出的 Gasboard、WWW.SHHZY3.CN/-2060紅外氣體傳感器，直擊這一痛點。該產品通過實時、*監測清潔過程中副產物如SiF?的濃度變化，能夠*、智能地判定清潔終點。這幫助客戶在實現*工藝控制的同時，有效降低運營成本，踐行綠色制造理念。
02. 微量氧分析儀：0.1ppm級精度，守護工藝環境純凈

在半導體制造中，氧污染是影響芯片良率的“隱形殺手”。即便微量氧氣（低至/WWW.shybdj6.net/ppm級）也足以引發不必要的氧化反應，導致集成電路和硅片缺陷，破壞薄膜結構的完整性，嚴重影響產品的均勻性和可靠性。
四方光電研發的 Gasboard-3050系列低濃度氧氣分析儀，*低分辨率達0.1 ppm，量程覆蓋0–10 ppm至* O?，搭載經現場長期驗證的氧化鋯傳感器，具備優異的再現性與高速響應特性，能對工藝氣體及設備腔室中的氧含量進行*監測，從而有效幫助客戶從源頭控制氧污染，為提升產品良率提供可靠保障。
贏得市場信賴，國產力量獲頭部客戶認可

憑借產品性能與穩定的質量表現，四方光電的半導體行業氣體監測方案已*打入國內多家主流半導體制造企業與設備廠商的供應鏈，并獲得頭部客戶的持續采購與良好評價。客戶反饋證實，四方光電的產品在穩定性及使用壽命等關鍵指標上，已達到同類進口產品水平，真正實現了國產化替代。

與此同時，四方光電積極參與SEMICON /WWW.SHSAIC.NETChina、CSEAC半導體設備年會等全球*半導體行業盛會，通過展會平臺與產業界深入交流，持續擴大影響力，展示了企業在高端科學儀器領域的創新實力與進取精神。

展望“十五五”新征程，高端儀器與集成電路產業的命運緊密交織在一起。四方光電將繼續秉持技術自立的初心，緊密圍繞*戰略與產業需求，不斷攻堅高端氣體分析領域的“卡脖子”難題，以更多創新、可靠的傳感解決方案，賦能半導體產業的提質增效與可控。